رشد و مشخصه یابی لایه های niو ni-co-cu

thesis
abstract

الکتروانباشت یکی از روشهای ساده ولی در عین حال پرکاربرد و قوی در زمینه رشد لایه های نازک فلزی است. با استفاده از این روش لایه های نازک ni و ni-co-cu از محلول های سولفاتی- سیتراتی تهیه گردیدند. به منظور بررسی رفتار پتانسیودینامیکی الکترولیت، منحنی cv مربوط به آنها تهیه و مورد مطالعه قرار گرفت. سپس با انتخاب ولتاژهای مناسب از روی این منحنی ها، عملیات لایه گذاری انجام گرفت. لایه ها تحت شرایط مختلف مانند تغییر زیرلایه- یک بار بر زیرلایه مس با جهت ترجیحی (200) و بار دیگر بر روی زیرلایه سیلیکون با جهت (111)- تغییر ولتاژ انباشت و تغییر دمای الکترولیت انباشت شدند. طیف های حاصل از پراش پرتو x تشکیل یک ساختارfcc را برای کلیه لایه ها و برای هر دو زیرلایه نشان دادند. برای لایه ni-co-cu رشدیافته بر زیرلایه مس مشاهده گردید که با افزایش ولتاژ انباشت تا v1/1- ولت و کاهش میزان غلظت مس تا mol.dm-3 003/0 در الکترولیت، ساختار لایه از شکل آلیاژی خود خارج شده، به سمت تشکیل خوشه های کبالت پیش می رود. این پدیده در مورد زیرلایه سیلیکون صادق نبود. نتایج حاصل از طیف پراش پرتو x لایه ni-co-cu رشدیافته بر زیرلایه سیلیکون که در الکترولیت با دماهای ° c45، ° c55 و ° c65 تهیه شده بود نشان داد که افزایش دما منجر به افزایش اندازه دانه ها و همچنین کاهش درصد مس در آلیاژ می شود. با افزایش دما از ° c45 تا ° c65 میزان درصد مس در آلیاژ از %48 به %42 کاهش یافت. مورفولوژی سطح لایه ها با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (afm) بررسی گردید. اثراتی از شکستگی در سطح تک لایه نیکل رشدیافته بر سطح سیلیکون مشاهده شد در صورتی که لایه رشدیافته بر سطح مس از همواری بیشتری برخوردار بود. سطح لایه ni-co-cu رشد یافته بر زیرلایه سیلیکون در دمای ° c65 به نسبت لایه های رشدیافته در دماهای پایین تر هموارتر، همچنین دارای دانه های بزرگتری بود. منحنی های cha لایه ni-co-cu نشان داد که در شرایط عدم به هم خوردگی محلول در ولتاژ v 850/0- تنها گونه مس رسوب می کند. در شرایط به هم خوردگی محلول، منحنی های cha چگالی جریان شبه ایستایی را پس از افزایش جریان در قله ها نشان دادند. نتایج مطالعه مغناطیسی لایه ها به وسیله دستگاه مغناطش سنج گرادیان نیروی متناوب (agfm)حاکی از این بود که بیشترین مقدار مغناطش اندازه گیری شده برای لایه مغناطیسی ni-co-cu رشدیافته بر زیرلایه سیلیکون مربوط به دمای ° c65 است.

First 15 pages

Signup for downloading 15 first pages

Already have an account?login

similar resources

رشد و مشخصه یابی لایه های آلیاژی co-cu

از زمانی که برای اولین بار اثر مغناطومقاومت بزرگ (gmr) در لایه های نازک مغناطیسی مشاهده شد، این ساختار ها مورد توجه و بررسی زیادی قرار گرفتند، زیرا این مواد برای ساخت حسگرهای مغناطیسی و هد های دیسک های سخت گزینه مناسبی به حساب می آیند. آلیاژ co-cu از جمله ساختارهایی است که دارای چنین خواصی می باشد. در این کار با استفاده از روش الکتروانباشت لایه co-cu رشد داده شد و خواص ساختاری و مغناطیسی آن مور...

15 صفحه اول

مشخصه یابی و مطالعه ناهمواری سطحی بس لایه های Co-Cu/Cu و Fe-Co-Cu/Cu الکتروانباشت شده بر زیرلایه شیشه/طلا

در این پژوهش بس لایه‌ های Co-Cu/Cu و Fe-Co-Cu/Cu بر روی زیر لایه شیشه /طلا به روش الکتروانباشت لایه‌ نشانی گردید. ناهمواری‌ های سطحی این لایه ‌ها به‌ وسیله میکروسکوپ نیروی اتمی بررسی شده و سپس با رسم نمودار ناهمواری‌ سطحی بر حسب طول اسکن در مقیاس لگاریتمی نوع و اندازه ناهمواری‌ های سطحی مورد محاسبه قرار گرفت. ساختار بس لایه ‌ها توسط پراش اشعه ایکس مورد مطالعه قرار گرفت و پیک‌ های مشخصه و ساختار...

full text

مشخصه یابی اتصال Ni/Cu براساس شیوه لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل برای سلول های خورشیدی مولتی کریستال سیلیکونی

در این مقاله، ساختار Ni/Cu به عنوان اتصال اهمی بر روی زیرلایه مولتی کریستال سیلیکون به روش الکتروشیمیایی (آبکاری الکتریکی) لایه �نشانی و مقاومت الکتریکی آن بهینه شده است. به منظور ایجاد ساختار مورد نظر، نیکل به دو روش آبکاری غیرالکتریکی و الکتریکی بر روی زیرلایه�های n+-Si� لایه نشانی شده و پس از گرمادهی (جهت بهبود خواص کریستالی)، لایه�ای از مس به روش آبکاری الکتریکی به منظور کاهش مقاومت سطحی و ...

full text

مشخصه یابی و مطالعه ناهمواری سطحی بس لایه های co-cu/cu و fe-co-cu/cu الکتروانباشت شده بر زیرلایه شیشه/طلا

در این پژوهش بس لایه های co-cu/cu و fe-co-cu/cu بر روی زیر لایه شیشه /طلا به روش الکتروانباشت لایه نشانی گردید. ناهمواری های سطحی این لایه ها به وسیله میکروسکوپ نیروی اتمی بررسی شده و سپس با رسم نمودار ناهمواری سطحی بر حسب طول اسکن در مقیاس لگاریتمی نوع و اندازه ناهمواری های سطحی مورد محاسبه قرار گرفت. ساختار بس لایه ها توسط پراش اشعه ایکس مورد مطالعه قرار گرفت و پیک های مشخصه و ساختار بلوری لا...

full text

ساخت و مشخصه یابی و تحلیل ساختاری نانو بلورهای فریت آلاییده با ni, co, znو cu

نانو بلورهای مغناطیسیcu1-yznyfe2o4 با میزان آلایش y=0, 0.25,0.5, 0.75, 1 و فریت روی آلاییده با 10% وزنی نقره بصورت میکرونی و نانویی و co1-xnixfe2o4 با میزان آلایش x=0, 0.2, 0.4, 0.6, 0.8, 1 توسط روش سل ژل ساخته شدند. مشخصه یابی نمونه های سنتز شده توسط پراش اشعه x (xrd)، میکروسکوپ الکترونی گسیل میدانی (fe-sem)، طیف سنجی مادون قرمز تبدیل شده فوریه (ftir)، مغناطیس سنج (vsm) در دمای اتاق صورت گرفت....

15 صفحه اول

رشد و مشخصه یابی ساختاری و مغناطیسی لایه های نازک آمورف و نانو بلوری co-p

الکتروانباشت یکی از روش های لایه نشانی است که امکان رشد لایه های آلیاژی، تک لایه و چند لایه ای را در شرایط طبیعی دما وفشار فراهم می کند. در این پروژه لایه های co-p و co به روش الکتروانباشت در دو مد chc و cha تحت پتانسیل ثابت در الکترولیت تک حمام بر روی زیرلایه های cu و ti انباشت شدند. به منظور تهیه ساختاری کریستالی برای لایه های مذکور از دو روش استفاده کردیم: 1) تغییر دادن محلول 2) حرارت دهی نم...

15 صفحه اول

My Resources

Save resource for easier access later

Save to my library Already added to my library

{@ msg_add @}


document type: thesis

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی شاهرود

Hosted on Doprax cloud platform doprax.com

copyright © 2015-2023